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ACM美国
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发展历程

Development

发展历程

Development

  • 1998

    ACM成立于硅谷


  • 成立上海公司

    2005

  • 2009

    SK Hynix开始评估


  • 在50nm下提高良率 主要SAPS订单源于SK Hynix

    2011-2013

  • 2015

    YMTC,SMIC,和HLMC的SAPS订单 TEBO经3D晶图验证

  • 启动纳斯达克上市计划

    2016

  • 2017

    TEBO 装机至 HLMC 11月3日IPO上市


  • R&D 中心在韩国建立 Tahoe评估P.O.

    2018-1H

  • 2018-2H

    2018年收入5.50亿元比2017年增长117%出货量6.36亿元净利润0.93亿元 第二工厂扩充产能


  • 盛美临港项目启动改制成股份公司 2019年收入7.57亿元比2018年增长37.5%出货量8亿元净利润1.35亿元

    2019

  • 2020

    盛美临港研发与制造中心奠基及开工 获得首台立式炉和刷洗机订单 发布18腔单片清洗设备、半关键系列清洗设备


  • 发布高速铜电镀技术、边缘湿法刻蚀设备、单片高温硫酸设备;11月18日,科创版上市

    2021

  • 2022

    盛美上海推出新型化合物半导体设备系列、ALD立式炉、Track、PECVD等设备;完成出货500电镀腔及3000湿法清洗腔体的成就;前道铜互连电镀设备荣获第五届“集成电路产业技术创新奖”。


  • 盛美上海临港研发与制造中心封顶;入选国家级第五批专精特新“小巨人”企业名单。

    2023

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